A filmszerű szennyeződések eddig alárendelt szerepet játszottak. Napjainkban azonban változások zajlanak. Mindennek kiváltó oka többek között az új gyártási módszerek és mobilitási koncepciók, valamint néhány egyéb trend megjelenése, amiből egy új követelményprofil bontakozik ki, összekötve a változtatásokat sürgető nyomással – és természetesen mindebből adódik a kérdés, hogy merre tovább, ipari tisztítástechnika?

A tisztítástechnikai beszerzések terén is egyre inkább felmerül a rugalmasan működő rendszer iránti igény. De milyen képességekkel kell rendelkezniük azoknak a berendezéseknek, amelyek költséghatékonyak, de ugyanakkor képesek az aktuális és a jövőbeli feladatokhoz illeszkedni?

Az alkatrészek felületi minőségével kapcsolatos igények egyre szigorúbbak, főleg az optikai iparban, az erős vákuummal dolgozó területeken és az orvostechnikában, ahol a filmszerű és a szerves szennyeződések maradéktalan eltávolítása nagy kihívást jelent.

A komplex geometriájú vagy nagy szerelési sűrűségű, kis és mikroméretű alkatrészek finom és szuper finom tisztítása mindig is nagy kihívást jelentett az ipari tisztítási technika számára. A megfelelő alternatívát a ciklikus nukleáció jelentheti, mivel éppen a kritikus területeken képes kibontakoztatni az adottságait.